平台洁净间面积超过900㎡，包括百级洁净区超过100㎡，千级洁净区约500㎡，万级洁净区约300㎡。按加工流程分布有有黄光光刻区、黄光涂胶间、干法刻蚀、镀膜区、化学间，并有量测区和后道工艺区，布局有光刻、镀膜、干法刻蚀、湿法刻蚀、氧化扩散、清洗、表征、后道等微纳先进加工设备共60余台，拥有步进式光刻机、涂胶显影一体机、电子束曝光系统、激光直写系统、紫外光刻机、晶圆键合机、低压化学气相沉积系统、原子层沉积系统、大角度磁控溅射、电子束蒸发系统、电感耦合等离子体增强气相沉积系统、化学气相沉积系统、深硅刻蚀系统、硅基刻蚀机、铌酸锂刻蚀机、扫描电子显微镜、原子力显微镜、台阶仪、晶圆划片机、晶圆减薄机、倒装焊等大型先进设备，具备硅基芯片制备与研发能力。
北京大学新燕园校区3号楼纳光电子前沿科学中心
纳光中心仪器设备通常对所有用户开放，因洁净室施工和维护、洁净室安全演练以及其他原因实施临时管制的除外。详情请查询北京大学大型仪器设备平台共享设备清单。
遵照教育部、财政部、北京大学设备部颁发相关管理规定和“科学管理、有偿使用”原则，纳光中心仪器设备使用实行收费制度，收费内容包括：设备机时收费、安全/设备培训费、洁净间使用费、委托加工费、技术服务/开发费、部分实验耗材费及其他等。
为避免工艺交叉污染，洁净间实施交叉污染技术评审规则，老用户尝试新材料加工工艺（含不同工艺材料、特殊工艺参数等）之前，应向纳光中心管理部门提请书面申请，描述主要工艺内容，经批准后方可进行新材料加工工艺；严禁用户私自尝试新材料加工工艺。用户应至少维持一项在纳光中心评审通过并有效的工艺流片项目，方可使用仪器设备开展微纳米加工与测试实验，以及与其他中心用户交流。
用户有义务支持纳光中心的发展，包括致谢或署名使用中心的资源，提供年度研究报告和出版物信息，以及严格遵守纳光中心的相关管理规范等。
纳光中心用户功能区域主要包括：微纳加工洁净间、用户活动区、二层动力区、技术保障功能区及中控室。
微纳米加工洁净室位于北京大学新燕园校区3号楼一楼，由实验净区和设备维护灰区组成。室内空气按百级（IOS Class5）和千级（IOS Class6）等级净化设计。洁净间黄光功能区为100%开孔高架地板确保室内空气为层流形式，洁净间内其他区域为实地，提供微纳米科学研究所需的洁净环境、温度、湿度和减震。
进入洁净间需依次经过第一更衣室和第二更衣室（含风淋室）；离开洁净室依次经过第二更衣室和第一更衣室（含互锁门），洁净间外围设置有参观通道。上述为限制非用户外访人员访问区域。
用户活动区位于3号楼的一楼大厅前台接待区，用于提供给用户研究人员相互交流、学习探讨的场所。
洁净间内的动力和技术保障功能区域主要包括3号楼一层的部分、二层动力间、楼顶屋面、地下室以及室外区域，主要用于空气净化处理、电子级超纯水，压缩干燥空气、工艺冷却水、大宗气体、特种气体以及尾气处理、中控和其他功能。上述为限制访问区域。
