设备名称：涂胶机（Sawatec-1）

设备厂家：Sawatec

设备简介：SAWATEC SM-200匀胶机是一款专为光刻、MEMS等精密涂胶工艺设计的高性能设备，适应不同尺寸与材质的基板需求，广泛应用于实验室、研发及试产项目。

设备用途：涂胶，适用于150mm以下晶圆表面光刻胶涂覆，可反转。最大转速10000rpm。仅支持电子束类光刻胶。

性能指标：

   1）转速范围：0 - 10,000rpm±1rpm

   2）转速加速度：0 - 10,000rpm为1 s

   3）转速减速度：10,000rpm - 0为2.5 s

   4）尺寸规格：支持6寸及以下晶圆与碎片

设备负责人及联系方式：  许清源 15382358875 xuqingyuan@pku.edu.cn，gngFab@pku.edu.cn