设备名称：光谱椭偏仪

设备型号：RC2 D

设备厂家：J.A.Woollam

设备简介：RC2 D是基于双旋转补偿器（Dual Rotating Compensators，D-RCE）技术的代表机型，能够同步采集超过1000个波长的全光谱数据，并完整记录样品的4×4 Mueller 矩阵（16个元素）。

用途：薄膜厚度及光学常数nk测量，相位延迟测量；光谱范围宽，测量速度快（全光谱数据采集时间1-5秒），测量重复性高（膜厚重复性优于0.005nm），可测量透射或反射4×4穆勒矩阵。支持变温光学常数测量。

技术指标：

1）光谱范围：210-2500nm，45-90度自动变角

2）光斑尺寸：120微米直径，200mm X/Y自动平移

3）样品尺寸：8inch及以下晶圆

4）温度范围：测试温度-70°C 到 600°C

5）建模方式：非常规材料需要自行建模，请提前沟通

设备负责人及联系方式：

许清源 15382358875 xuqingyuan@pku.edu.cn，gngFab@pku.edu.cn