设备名称：深紫外曝光系统

设备厂家：Canon INC

设备简介：Canon FPA3000 EX4 是一款高性能的步进式光刻机，专为半导体制造业设计的量产型光刻工艺装备，适用于生产高精度的集成电路等。

设备用途：主要用于半导体制造、微机电系统和光电器件的生产，应用于4寸、6寸、8寸生产线。广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域。

性能指标：

1）样品尺寸：4inch

2）分 辨 率：0.25um，

3）镜头倍率：5:1

4）最大曝光场：22×22mm

5）曝光光源：KrF/248nm

6）对准精度：60nm，自备Mark板，Mark标记请提前与设备工程师沟通

设备负责人及联系方式：

许清源 15382358875 xuqingyuan@pku.edu.cn，gngFab@pku.edu.cn