设备名称：涂胶显影一体机

设备型号：TEL-ACT8

设备厂家：TEL(东京电子)

设备简介：Track ACT8 TM 是目前世界上以高可靠性著名的涂胶/显影设备，可对应4inch硅片生产的高端涂胶显影设备。半导体制造设设备涂胶显影机用于半导体制造光刻工艺段，是感光剂的涂布和显影剂及附着力促进剂的涂布设备。在该设备的涂胶单元中，硅片上面的感光剂被涂布后送到曝光设备里，通过与光刻机的联机将掩模板上的图形投影到硅片上。接下来，曝光后的硅片通过机械手传递回涂胶显影机的显影单元，通过堆硅片表面喷涂显影液，使被感光部分的感光剂溶解，即可将掩模板图形转移到光刻胶中。经过各种工序重复，完成完整晶圆级光刻。

用途：涂胶单元中，涂布附着力促进剂、感光剂，显影单元中，喷涂显影剂显影定影

性能指标：

1）涂胶膜厚均匀性：3 Sigma≤10nm

2）显影线宽均匀性：（0.15μm CD测试）3 Sigma≤10nm

3）腔体氨气浓度：＜1ppb（Fab环境小于100ppb条件下）

4）CHP热板温度：50~200℃（±0.3℃）

5）工艺量产能力：60WPH

6）联机曝光要求：与深紫外曝光系统联机作业（inline）

设备负责人及联系方式：

许清源 15382358875 xuqingyuan@pku.edu.cn，gngFab@pku.edu.cn