设备名称：电子束蒸发沉积系统

设备型号：PRO Line PVD 200

设备厂家：Kurt J. Lesker Company

设备简介：Kurt J. Lesker PVD 200 高真空电子束热蒸发复合沉积镀膜系统可在金属、陶瓷、塑料等基片的表面进行薄膜沉积，制备均匀的薄膜，膜厚度可由数百埃至数微米。支持6inch晶圆及向下兼容样品镀膜，装有6个热蒸发舟；配备eKLipse™先进控制软件，实现自动化镀膜速率调整与快速抽真空；性能稳定可靠。

用途：具备电子束蒸发一种模式，主要用于Au、Pb、Ag、Nb、Al、Ni、Ti、Cr、TiN等金属膜材料的蒸发制备。

技术指标：

1）样品尺寸：6inch及向下兼容、小碎片

2）加热温度：≤350℃

3）极限真空：5E-7Pa

4）速率：0.1A/s-10A/s可调

5）膜厚不均匀性：6inch硅片镀制150nm以上的薄膜，均匀性≤±5%（去边5mm）

6）薄膜类型：Au、Pb、Ag、Nb、Al、Ni、Ti、Cr、TiN等金属膜材料；如果需要沉积磁性薄膜，请提前一周沟通说明

设备负责人及联系方式：

陈豪 18737803719 chenh@pku.edu.cn，gngFab@pku.edu.cn