设备名称：等离子清洗机（一）
设备型号：IoN 40
设备厂家：PVA TePla America,LLC.
设备简介：PVA TePla America LLC IoN 40 是一款桌面式射频（RF）气体等离子体反应器，支持批量晶圆及异形样品的清洗、刻蚀与表面改性，可接入多种工艺气体与真空泵，广泛应用于半导体、LED、MEMS 与生命科学领域。
用途：IoN 40等离子清洗机主要用于芯片生产制备过程中，对晶圆进行表面有机污染物清洁，表面活化改性，打底膜，光刻胶灰化等。
技术指标：
1）射频电源：600W 13.56MHz
2）工艺气体：O2，Ar
3）样品尺寸：5层托盘，最大可处理8"晶圆；可同时处理25片
设备负责人及联系方式：
赵锐超 15803221403 zhaoruichao@pku.edu.cn，gngFab@pku.edu.cn
